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  • VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

    VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備,含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

    更新日期:2025-07-29
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • VTC-600GD高真空磁控濺射儀

    VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

    更新日期:2025-05-30
    型號(hào):VTC-600GD
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀

    VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

    更新日期:2025-05-30
    型號(hào):VTC-16-1HD
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

    VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

    更新日期:2024-03-30
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

    VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

    更新日期:2024-03-30
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

    VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。

    更新日期:2024-04-10
    型號(hào):
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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